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J-GLOBAL ID：200903035235444872

レーザ・抵抗ハイブリッド溶接のシステムおよび方法

Inventor： ウォン,ペイ-チュン ,  チャオ,シーファ ,  チャオ,ヒー
Applicant, Patent owner： ジーエム・グローバル・テクノロジー・オペレーションズ・インコーポレーテッド ,  ジーリン・ユニバーシティ
Agent (6)： 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  竹内 茂雄
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2008520257
Publication number (International publication number)：2009500177
Application date： Jun. 22, 2006
Publication date： Jan. 08, 2009
Summary：

加熱ユニットおよび溶接装置を有する、改善された融接システムは、複数の作業片の溶接の効率性を高めるように適合される。このシステムは、好ましくは、片面プロセスを有し、前記作業片の一部を最低限の温度まで加熱するように動作可能な第1および第2の電極ホイールと、加熱された部分内に連続溶接部を形成するために協働するように構成された、移動可能なレーザとを備える。この好ましいシステムは、従来のレーザ溶接システムよりも、低いレーザ電力出力または速い溶接スピードでの溶接部製作を可能にしながら、精密性などレーザ溶接の利点を提供する。

Claim (excerpt)：

複数の作業片を溶接するためのシステムであって、 前記作業片の第1の部分を最低限の温度まで加熱するように構成された加熱ユニットと、 前記第1の部分に係合しそれをさらに加熱するように構成された溶接装置とを備え、前記ユニットおよび装置が、前記複数の作業片を溶接するために協働するように構成される、システム。

IPC (2)：

B23K 26/20 ,  B23K 28/02

FI (3)：

B23K26/20 310C ,  B23K26/20 310G ,  B23K28/02

F-Term (4)：

4E068BC03 ,  4E068BF00 ,  4E068CE08 ,  4E068DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特表平4-501234