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J-GLOBAL ID：200903035249545655

基板洗浄装置

Inventor： 宮田 純夫
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992348062
Publication number (International publication number)：1994190346
Application date： Dec. 28, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 基板の表面に損傷を与えることなく洗浄むらを低減させられる基板洗浄装置を提供する。【構成】 ガラス基板Gを搬送手段で搬送すると、下部エアーナイフおよび上部エアーナイフ間に位置する。クリーンエアをガラス基板Gに吹き付け、クリーンエアを基板ガラスGの塵埃を吹き飛ばすとともに、回転ブラシ11をガラス基板Gの搬送方向と反対になるように回転させ、ガラス基板Gにこびりついた汚れを掻き落とす。回転ブラシ11は両端部に比べ中央部を縮径して構成したため、ガラス基板Gの搬送方向の両側を保持して、搬送方向の中央にたわみbが生じても、回転ブラシ11とガラス基板Gとの接触圧は、ガラス基板Gの中央部および両端部で均一になる。回転ブラシ11がガラス基板Gの全面に接触するので、洗浄むらを解消できる。

Claim (excerpt)：

基板の両端部を支持し搬送する搬送手段と、この搬送手段の下方に配置され前記基板の搬送方向に対して交差する方向に回転軸を有する円柱状の洗浄ブラシとを備えた基板洗浄装置において、前記洗浄ブラシは、両端部に比べ中央部を縮径して構成したことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4)：

B08B 1/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 1/08 ,  H05K 3/26