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J-GLOBAL ID：200903035290704344
X線発生装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994174602
Publication number (International publication number)：1996037095
Application date： Jul. 26, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：
【要約】【目的】 X線源から発生するX線(特に、波長13nm近傍の長波長軟X線)の強度を大きく減少させることなく、標的部材やプラズマからの飛散粒子を効果的に減少させて、飛散粒子阻止用薄膜やX線光学素子、X線被照射物などへの飛散粒子の付着、堆積を低減又は防止して、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【構成】 減圧された真空容器101内の標的部材104に励起エネルギービーム106を照射してプラズマ105領域を形成させ、該プラズマ105領域から放出されるX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器101内にKrガスを供給して、前記X線と共に放出される飛散粒子114及び前記標的部材から放出される飛散粒子114の運動エネルギー低減を可能とするKrガス供給系108,109を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Claim (excerpt)：
減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマ領域を形成させ、該プラズマ領域から放出されるX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器内にKrガスを供給して、前記X線と共に放出される飛散粒子及び前記標的部材から放出される飛散粒子の運動エネルギー低減を可能とするKrガス供給系を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Patent cited by the Patent：
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