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J-GLOBAL ID:200903035302850139

太陽電池の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002215237
Publication number (International publication number):2004056057
Application date: Jul. 24, 2002
Publication date: Feb. 19, 2004
Summary:
【課題】熱酸化法のような高温プロセスを用いず、低温で熱酸化法と同程度の表面パッシベーション特性をもつ太陽電池の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の太陽電池の製造方法は、第一導電型のシリコン基板の受光面側に第二導電型の不純物をドーピングすることにより、pn構造を有したシリコン基板において、該基板の受光面側に、少なくとも酸素を含むガスを用いてプラズマ処理を行ない、該プラズマ工程の後に、酸化膜材料を含む塗料を塗布し、乾燥し、焼成して酸化膜を形成する工程をさらに行なうことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
第一導電型のシリコン基板の受光面側に第二導電型の不純物をドーピングすることにより、pn構造を有したシリコン基板において、 該基板の受光面側に、少なくとも酸素を含むガスを用いてプラズマ処理を行ない、その後、酸化膜材料を含む塗料を塗布し、乾燥し、焼成して酸化膜を形成する工程を行なうことを特徴とする、太陽電池の製造方法。
IPC (1):
H01L31/04
FI (1):
H01L31/04 F
F-Term (7):
5F051AA02 ,  5F051BA18 ,  5F051CB13 ,  5F051CB24 ,  5F051CB29 ,  5F051DA03 ,  5F051DA09

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