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J-GLOBAL ID:200903035356940320

水素分離膜の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光石 俊郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991316290
Publication number (International publication number):1993078810
Application date: Nov. 29, 1991
Publication date: Mar. 30, 1993
Summary:
【要約】【目的】 欠陥がなく水素透過性能に優れる水素分離膜を簡易に製造できる方法を提供する。【構成】 セラミック多孔体あるいは金属多孔体を基材とし、この基材表面に減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成する。また、パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成した後、当該膜の最表面をレーザビームにより加熱溶融する。さらに、金属多孔体表面にセラミクスを溶射した後、パラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成し、その後高温加熱処理する。
Claim (excerpt):
セラミック多孔体あるいは金属多孔体を基材とし、この基材表面に減圧プラズマ溶射法によりパラジウムあるいはパラジウム合金からなる膜を形成することを特徴とする水素分離膜の製造方法。
IPC (2):
C23C 4/08 ,  C23C 4/18

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