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J-GLOBAL ID：200903035382837057

X線マスク構造体、X線露光装置及びX線露光方法

Inventor： 千葉 啓子
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992027544
Publication number (International publication number)：1993198482
Application date： Jan. 20, 1992
Publication date： Aug. 06, 1993
Summary：

【要約】【目的】 従来技術の問題点を解決し、帯電防止性や寸法精度に優れたX線マスク構造体、X線露光装置及びX線露光方法を提供すること。【構成】 所望パターンのX線吸収体と該吸収体を保持するX線透過膜とこれらを保持する保持枠とを有するX線マスク構造体において、該保持枠の最外周部がイオン注入されており、少なくともその一部がX線透過膜上に形成された導電膜と導通していることを特徴とするX線マスク構造体、及びこれらのX線マスク構造体を使用するX線露光装置及びX線露光方法。

Claim (excerpt)：

所望パターンのX線吸収体と該吸収体を保持するX線透過膜とこれらを保持する保持枠とを有するX線マスク構造体において、該保持枠の最外周部がイオン注入されており、少なくともその一部がX線透過膜上に形成された導電膜と導通していることを特徴とするX線マスク構造体。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 331 M ,  H01L 21/30 331 A ,  H01L 21/30 331 E