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J-GLOBAL ID：200903035386661069

光ディスク用マスター原盤の製造方法

Inventor： 大森 健 ,  小林 俊裕 ,  青山 裕司
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社
Agent (1)： 重野 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992004826
Publication number (International publication number)：1993189813
Application date： Jan. 14, 1992
Publication date： Jul. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板上に形成したレジスト膜にレーザービームを照射して露光することにより、該レジスト膜に案内溝、或いは案内溝と共にピットを形成する工程を有する光ディスク用マスター原盤の製造方法において、幅の広い案内溝や幅の狭いピットを良好なコントラストのもとに容易に形成する。【構成】 2本以上のレーザービーム19、20を基板21の半径方向にその一部が重なるように配置し、2本以上のレーザービーム19、20をレジスト膜22に照射してレジスト膜22に案内溝24、25を形成する。1本のレーザービーム19のみでピットを形成する。【効果】 2本以上のレーザービームにより幅の広い案内溝を形成できる。1本のレーザービームのみで、幅の狭いピットを形成できる。

Claim (excerpt)：

基板上に形成したレジスト膜にレーザービームを照射して露光することにより、該レジスト膜に、幅1.0〜1.2μm、深さλ/9n〜λ/7n(ただし、nは光ディスクの媒体の屈折率、λは読み出し時のレーザーの波長)のU字形断面の案内溝を形成する工程を有する光ディスク用マスター原盤の製造方法において、前記レジスト膜の露光にあたり、2本のレーザービームを、前記基板の半径方向にその一部が重なるように配置し、該2本のレーザービームを該レジスト膜に照射することを特徴とする光ディスク用マスター原盤の製造方法。