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J-GLOBAL ID：200903035388504572

ドライエッチング装置およびドライエッチング方法

Inventor： 組橋 孝生 ,  辻本 和典 ,  田地 新一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992065742
Publication number (International publication number)：1993267226
Application date： Mar. 24, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【構成】ポンプの排気速度を2000 l/s以上とし、排気系のコンダクタンスを2000 l/s以上とすることにより実効排気速度を1300 l/sとし、ガスの滞在時間が100ms以下にし、ガス滞在時間と同程度の応答速度のガス流量コントローラを設ける。【効果】タイムモジュレーションエッチングにおいて側壁形状を平坦にすることができる。またタイムモジュレーション,マルチステップ,静電吸着の着脱等のガス切り替えに要する時間を短縮してスループットが向上する。

Claim (excerpt)：

真空処理室内に処理ガスを導入する少なくとも一つの手段を有し、前記処理ガス導入手段に少なくとも一つのガス流量調整手段を設け、ガスを前記真空処理室外に排気する手段、排気コンダクタンスを可変にして排気速度を変える手段を有し、高周波放電またはマイクロ波放電手段を有し、前記放電手段により発生させたガスプラズマを用いて前記真空処理室内に設置した試料を処理するドライエッチング装置において、前記排気手段に実効総排気速度が1300 l/s以上になる排気ポンプを用い、前記処理ガスの真空処理室内滞在時間を100ms以下にし、前記ガス流量調整手段と前記排気速度を変える手段と前記放電手段の動作とを制御する手段を有し、前記ガス流量調整手段が一定流量を保持できる最短時間を50ms以下、かつガス露出量を10ラングミュア以下にすることを特徴とするドライエッチング装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-218013
  
• 特開昭63-199978
  
• 特開昭63-304631
  
• 特開昭60-126835