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J-GLOBAL ID：200903035389127390

光導波路機能素子及びその製造方法

Inventor： 渡辺 章夫 ,  川添 健実
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 田中 増顕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991347624
Publication number (International publication number)：1993158005
Application date： Dec. 04, 1991
Publication date： Jun. 25, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 剥離に対して強固な保護膜を持った光導波路機能素子を得る。【構成】 ニオブ酸リチウム基板10上の電極13を覆うようにSiO2 /TiO2 14,15の保護膜を設ける。なおTiO2 はTiをアニールを行うことによって作成し、そのとき、電極間抵抗を所望の値になるようにアニール時間を調節する。

Claim (excerpt)：

光導波路を形成したニオブ酸リチウム基板と、基板上に設けられたSiO2 のバッファ層と、バッファ層上に設けた電極と、バッファ層と電極を覆うように設けられかつアニールによって抵抗値を変化させたSiO2 /TiO2 保護膜とを有することを特徴とする光導波路機能素子。

IPC (3)：

G02F 1/035 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/31