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J-GLOBAL ID：200903035422083220

クラスタ生成装置

Inventor： 石井 清 ,  濱欠 裕貴 ,  隅山 兼治
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 小倉 亘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998252495
Publication number (International publication number)：2000087226
Application date： Sep. 07, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：

【要約】【目的】 数nmオーダーの超微粒子を長時間にわたって安定条件下で作製する。【構成】 円筒状のターゲットTを内挿したターゲットホルダ10を、絶縁部材21〜24を介して真空フランジ31とカップリング32との間に狭持する。カップリング32の導入孔33からスパッタガスGを送り込み、ターゲットTに放電電圧を印加してスパッタ蒸気を発生させる。ターゲットT出側では、同心円状に設けられた多数の噴出孔37からキャリアガスCがターゲットTに向けて噴射される。生成したスパッタ蒸気は、キャリアガスCで絞られ、ジェット状の流れとなって蒸着域に移送される。

Claim (excerpt)：

円筒状のターゲットが内挿されたターゲットホルダと、絶縁部材を介してターゲットホルダに押圧され、スパッタガス導入孔が形成されているカップリングと、ターゲット出側で絶縁部材を介してターゲットホルダに押圧された真空フランジと、真空フランジに一体化され、ターゲットに向けてキャリアガスを吹き付ける噴出孔が円周方向に形成され、ターゲットと同心円状の開口部をもつカバーとを備え、スパッタ蒸気の拡散が噴出孔からのキャリアガスによって抑えられ、ジェット状の流れとして蒸着域に移送されるクラスタ生成装置。

IPC (3)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/34 ,  H01L 21/203

FI (3)：

C23C 14/32 G ,  C23C 14/34 T ,  H01L 21/203 S

F-Term (12)：

4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC13 ,  4K029DD03 ,  5F103AA07 ,  5F103AA08 ,  5F103BB09 ,  5F103GG10 ,  5F103NN02 ,  5F103RR01