コールドウォール形処理装置のクリーニング方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐々木聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992309258
Publication number (International publication number)：1993226270
Application date： Oct. 23, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】[目的]コールドウォール形処理装置内を隅々まで効果的にクリーニングすることができ、かつ特別な除去装置を必要としないクリーニング方法を提供する。[構成]処理容器10内に、常温の下で、ClF3 をN2 ガスで希釈したクリーニングガスを供給して、クリーニングを行う。この際、プラズマをかけることはしない。ClF3 ガスは非常に活性であるため、常温下でも反応してW被膜およびWSi 被膜をエッチングする。ClF3 ガスが処理容器10内の隅々まで十分に行きわたるようにクリーニングガスの圧力、流量が制御されることで、処理容器10内の隅々まで各部のW被膜およびWSi 被膜が除去される。クリーニングの排ガスは、容器底面10aの排気口42から排気管44を介してポンプ46へ送られ、ポンプ46から除去装置48へ送られる。

Claim (excerpt)：

コールドウォール形の処理装置の内部をクリーニングする方法において、前記処理装置内の温度を常温〜約400 ゚Cに維持した状態で前記処理装置内にClF3 を含むクリーニングガスを供給し、前記処理装置内に付着した被膜を除去するようにしたことを特徴とするクリーニング方法。

IPC (4)：

H01L 21/205 , C23C 16/00 , H01L 21/285 , H01L 21/31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開平3-047968
特開平1-231936
特開平3-243688

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Cited by examiner (14)

特開平4-280987
特開平3-047968
特開平3-047968

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