スパッタリング用ターゲット、その製造方法、そのターゲットを用いた光記録媒体及びその光記録媒体の製造方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：池浦敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994332532
Publication number (International publication number)：1996022644
Application date： Dec. 13, 1994
Publication date： Jan. 23, 1996
Summary：

【要約】【目的】従来に比べC/N、消去比、感度、記録.消去繰り返し特性の飛躍的向上を達成できる光記録媒体を提供する。【構成】記録を担う物質の相変化により記録消去を行う光記録媒体の記録層の構成元素を主としてAg、In、Te、Sbで、それぞれの組成比α、β、γ、δ(原子%)が、0<α≦300<β≦3010≦γ≦5010≦δ≦80α+β+γ+δ=100としたことを特徴とする光記録媒体。

Claim (excerpt)：

記録を担う物質の相変化により記録及び消去を行なう光記録媒体の記録層を作製する際に用いられ、構成元素が主にAg、In、Te、Sbであり、それぞれの組成比α、β、γ、δ(原子%)が、2≦α≦303≦β≦3010≦γ≦5015≦δ≦83α+β+γ+δ=100であることを特徴とするスパッタリング用ターゲット。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

相変化型光記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-017703 Applicant：株式会社リコー
光情報記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-081094 Applicant：株式会社リコー
光記録膜作製用高純度ターゲツトおよびその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-224566 Applicant：同和鉱業株式会社

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