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J-GLOBAL ID：200903035474129202
プラズマエツチング装置における電源マツチング回路
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
木内 光春
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991314385
Publication number (International publication number)：1993152098
Application date： Nov. 28, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】 プラズマエッチング装置における電源マッチング回路において、加工条件の変化が大きく変化しても、マッチング調整の対応を行な得るようにして許容範囲を広げるようにしたことにある。【構成】 ベース3上に設けられた陰極となるテーブル5上に供試体Sを密閉すべく下面に陽極を備えたチャンバー7をテーブル5上に設け、陽極と陰極との間でプラズマを発生させることにより、供試体Sにエッチング処理するプラズマエッチング装置1において、テーブル5と高周波発振器11に接続された増幅器13との間に、コイル17を直列に接続すると共に、コイル17の前後にそれぞれ可変コンデンサ19,21を並列して設け、前記コイル17を可変自在に設けたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
ベース上に設けられた一方の電極となるテーブル上に供試体を載置すると共に、この供試体を密閉すべく下面に他方の電極を備えたチャンバーを前記テーブル上に設け、前記一方の電極と他方の電極との間でプラズマを発生させることにより、前記供試体にエッチング処理するプラズマエッチング装置において、前記一方の電極となるテーブルと高周波発振器に接続された増幅器との間に、コイルを直列に接続すると共に、コイルの前後にそれぞれ可変コンデンサを並列に接続して設け、前記コイルを可変自在に設けてなることを特徴とするプラズマエッチング装置における電源マッチング回路。
IPC (2)：
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