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J-GLOBAL ID：200903035497034489

二重ジェットスプレー洗浄方法および装置

Inventor： ジョン・ディー・スニード ,  ウイルフリード・クローン - シュミット ,  マイケル・ジェイ・スラットリー ,  ホワード・エス・ボウエン
Applicant, Patent owner： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994093581
Publication number (International publication number)：1995068228
Application date： May. 02, 1994
Publication date： Mar. 14, 1995
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、光学、電子および精密機械装置等のデリケートな表面を洗浄するための二酸化炭素スノーの使用する洗浄方法の性能を向上させることを目的とする。【構成】 洗浄スノー流が第1のスプレー装置20のノズル24によって選択された基体面に向けられ、その上に位置された汚染を除去し、基体表面の選択された部分へのこの洗浄スノー流の供給の前または後に基体表面の選択された部分を加熱するために第2のスプレー装置30によって選択された基体面に加熱ガスが供給されることを特徴とする。洗浄スノー流の供給の前の加熱では典型的には40〜60°Cに加熱され、また供給後の加熱では周囲蒸気の露点より上の20°C以上に加熱される。

Claim (excerpt)：

洗浄スノー流が選択された基体面に向けられ、その上に位置された汚染を除去する基体表面の洗浄方法において、基体表面の選択された部分への前記洗浄スノー流の供給の前または後に基体表面の選択された部分を加熱するステップを含んでいることを特徴とする基体表面の洗浄方法。

IPC (4)：

B08B 7/02 ,  B23Q 11/10 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平3-145130