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J-GLOBAL ID：200903035524469336

X線分析装置

Inventor： 戸田 勝久 ,  河野 久征
Applicant, Patent owner： 理学電機工業株式会社
Agent (1)： 杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993297362
Publication number (International publication number)：1995128263
Application date： Nov. 02, 1993
Publication date： May. 19, 1995
Summary：

【要約】【目的】 1つの装置で、蛍光X線分析およびX線回折分析の両方を行い得るX線分析装置を提供する。【構成】 ロジウムRhをターゲット材とするX線管3を用いて蛍光X線分析を行うとともに、試料1に含まれる結晶によって回折されたRhLα線を取り出して、分光することにより、X線回折分析を行う。

Claim (excerpt)：

互いに波長の異なる複数種類の特性X線を含むX線を試料に照射する照射装置と、上記試料から発生した蛍光X線を分光する第1の分光素子と、この第1の分光素子によって分光された蛍光X線を検出する蛍光X線検出器と、上記特性X線のうち波長の長い特性X線であって上記試料により回折されて反射された特性X線を分光する第2の分光素子と、この第2の分光素子によって分光された波長の長い特性X線を検出する回折X線検出器とを備えたX線分析装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• X線分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-305785   Applicant：ファイソンズ・ピーエルシー