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J-GLOBAL ID：200903035544423200
超高純度ガスの供給方法及び供給系
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995348677
Publication number (International publication number)：1996274028
Application date： Dec. 18, 1995
Publication date： Oct. 18, 1996
Summary：
【要約】【課題】 減圧下で動作させる装置に、超高純度なガスの供給を可能にした、超高純度ガスの供給方法及び供給系を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、減圧下にて成膜又はエッチングを行う装置の非動作時には、該装置に超高純度ガスを送入するための配管から超高純度ガスを配管外に排出し、前記装置の動作時には該配管の加熱を停止して超高純度ガスを該装置の導入口を介して該配管から該装置内に送入することを特徴とする。また、本発明は、減圧下にて成膜又はエッチングを行うための装置のガス導入口と超高純度ガス源とを連通する配管を含む配管系において、前記装置のガス導入口前にガスを配管系外に排出する機構を有していることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
減圧下にて成膜又はエッチングを行う装置の非動作時には、該装置に超高純度ガスを送入するための配管から超高純度ガスを配管外に排出し、前記装置の動作時には超高純度ガスを該装置の導入口を介して該配管から該装置内に送入することを特徴とする超高純度ガスの供給方法。
IPC (6)：
H01L 21/203
, B01J 3/02
, C23C 14/24
, C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H01L 21/203 S
, B01J 3/02 M
, C23C 14/24 M
, C23C 16/44 D
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
