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J-GLOBAL ID：200903035550155633

イオンビーム処理方法および装置

Inventor： 宇佐見 康継 ,  小池 英巳
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992172314
Publication number (International publication number)：1994012996
Application date： Jun. 30, 1992
Publication date： Jan. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】本発明は適切な放電開始がなされるのに適したイオンビーム処理技術を提供することにある。【構成】イオン化室1に導入されるべきガスの種類に応じた放電開始条件を予め記憶装置24に記憶しておき、入出力装置25を通じてのガスの種類の指定に応答して、その指定されたガスの種類に対応して記憶されている放電開始条件を読みだして、この条件下で、指定されたガスをイオン化室1に導入し、放電を開始させる。

Claim (excerpt)：

イオン化室にガスを導入して放電によりそのガスのプラズマを生成し、その生成されたプラズマからイオンビームを引き出してその引き出されたイオンビームにより試料を処理するイオンビーム処理装置であって、前記イオン化室に導入されるべきガスの種類に応じた放電開始条件を予め記憶しておく手段と、前記イオン化室に導入されるべきガスの種類を指定する手段とを備え、その指定に応答してその指定されたガスの種類に対応して記憶されている放電開始条件を前記記憶手段から読みだし、その読みだされた放電開始条件下で前記放電を開始するようにしたことを特徴とするイオンビーム処理装置。

IPC (2)：

H01J 27/10 ,  H01L 21/265

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-257747
  
• 特開昭64-035843
  
• 特開昭56-061744
  
• 特開平2-056833