ペリクル構造体及びペリクル構造体内部の雰囲気置換方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999312950
Publication number (International publication number)：2001133961
Application date： Nov. 02, 1999
Publication date： May. 18, 2001
Summary：

【要約】【課題】ペリクル構造体内部のO2濃度を容易に減少させられるペリクル構造体を得る。【解決手段】ペリクルフレーム3とペリクルフレーム3の上面に接着されたペリクル板4とからなるペリクル構造体であって、マスク5にペリクル構造体が装着された状態でペリクル構造体内部にガスを導入するためのガス導入孔1とペリクル構造体内部からガスを排出するためのガス排出孔2とを有する。

Claim (excerpt)：

ペリクルフレームとペリクルフレームの上面に接着されたペリクル板とからなるペリクル構造体であって、マスク又はレチクルにペリクル構造体が装着された状態でペリクル構造体内部にガスを導入するためのガス導入孔とペリクル構造体内部からガスを排出するためのガス排出孔とを有することを特徴とするペリクル構造体。

IPC (2)：

G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/14 K , H01L 21/30 502 P

F-Term (2)：

2H095BB30 , 2H095BC38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

ペリクル膜付きレチクル及びその異物除去方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-130237 Applicant：三菱電機株式会社
ペリクル及びペリクル付きフォトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-007715 Applicant：日本電気株式会社

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