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J-GLOBAL ID：200903035575405227

ガス供給装置およびそれを備えたマイクロ波プラズマ成膜装置

Inventor： 渡邉 邦彦 ,  田中 政博 ,  轟 悟 ,  斎藤 克明
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991245493
Publication number (International publication number)：1993090169
Application date： Sep. 25, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】原料ガスの供給を独立した二系統以上で行うことにより、反応性の高い混合ガスによる成膜や、膜厚分布の改善を可能にする。【構成】ガス供給装置20をマイクロ波を透過する石英板1等の物質で構成し、内部空間を複数に分離、各々に対して独立にガス供給を行う。これによりモノシランと酸素のように反応性の強いガスを独立に供給することが可能となる。

Claim (excerpt)：

マイクロ波が透過する物質で構成され、かつ基板から等距離に設置され基板の法線方向にガスを吹き出す複数の吹出口をもつガス供給装置であって、複数のガス供給系をもち、ガスを供給装置外部若しくは吹出口部のみで混合する構造であることを特徴とするガス供給装置。

IPC (3)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/31