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J-GLOBAL ID:200903035602405153
光ディスクの製造方法、表面処理装置及び光アッシング装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
浅井 章弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996252410
Publication number (International publication number):1998036536
Application date: Sep. 03, 1996
Publication date: Feb. 10, 1998
Summary:
【要約】【課題】 洗浄機能や表面改質機能の高いラジカル酸素の発生効率を向上させた表面処理装置を提供する。【解決手段】 処理チャンバ8と、この処理チャンバ内に収容される被処理体12を保持する保持台11と、この保持台に対向させて設けられて酸素を含む処理ガスを導入する処理ガス導入部13と、ラジカル酸素を発生させるために前記処理ガス導入部と前記保持台との間に複数段に亘って設けられた紫外線ランプ17と、前記保持台に対して前記処理ガス導入部とは反対側に設けられたガス排気部18とを備えるように構成する。これにより、処理ガスがランプ群内を流れる経路を長くして、ラジカル酸素を多量に発生させる。
Claim (excerpt):
処理チャンバと、この処理チャンバ内に収容される被処理体を保持する保持台と、この保持台に対向させて設けられて酸素を含む処理ガスを導入する処理ガス導入部と、ラジカル酸素を発生させるために前記処理ガス導入部と前記保持台との間に複数段に亘って設けられた紫外線ランプと、前記保持台に対して前記処理ガス導入部とは反対側に設けられたガス排気部とを備えたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (4):
C08J 7/00 304
, C08J 7/04
, C08J 7/06
, G11B 7/26
FI (4):
C08J 7/00 304
, C08J 7/04 V
, C08J 7/06 Z
, G11B 7/26
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