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J-GLOBAL ID:200903035605316194

自動半田付け方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 内田 和男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992345612
Publication number (International publication number):1994169164
Application date: Nov. 30, 1992
Publication date: Jun. 14, 1994
Summary:
【要約】【目的】 酸素濃度の非常に低い雰囲気中で半田付けを行う不活性ガス室の外部において不活性ガスと空気とを混合して所望の酸素濃度の混合気としてから該混合気を不活性ガス室に供給することにより、極めて短時間にかつ簡単に不活性ガス室内の酸素濃度を非常に精度よく調節できるようにし、半田付け性能の飛躍的な向上と操作性の著しい改善を図ることである。【構成】 半田付けを行う不活性ガス室の外部に、不活性ガスと空気とを予め所望の酸素濃度に混合する混合器と、不活性ガスと空気の供給量を調節して混合気の酸素濃度を任意に設定できるようにしたレギュレータを備えた構成を特徴とする。
Claim (excerpt):
不活性ガスを供給し、酸素濃度の非常に低い雰囲気の不活性ガス室内で電子部品が搭載された基板を半田付けする自動半田付け方法において、前記不活性ガスと空気とを前記不活性ガス室の外部で混合して所望の酸素濃度の混合気とし、該混合気を前記不活性ガス室の内部に供給することを特徴とする自動半田付け方法。
IPC (2):
H05K 3/34 ,  B23K 1/08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平4-356349
  • 特開平4-055058
  • 特開昭61-059894
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