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J-GLOBAL ID：200903035630643698

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 佐藤 健一郎
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (4)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005071192
Publication number (International publication number)：2006251672
Application date： Mar. 14, 2005
Publication date： Sep. 21, 2006
Summary：

【課題】 現像欠陥性能に優れ、更に液浸リソグラフィーにおいてPEDの十分改良されたポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(C)一般式(I)の含窒素化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (C)一般式(I)の含窒素化合物、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (13)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 国際公開2004-068242A1号パンフレット