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J-GLOBAL ID：200903035641249363

蛍光X線分析装置

Inventor： 一宮 豊
Applicant, Patent owner： セイコー電子工業株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993040312
Publication number (International publication number)：1994249804
Application date： Mar. 01, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】 二次ターゲット励起方式エネルギ分散型蛍光X線分析において、バックグランドの要因である散乱X線を減らし、検出下限(検出感度)を向上させる。【構成】 二次ターゲットとX線管球の間に、二次ターゲットの構成元素の原子番号より少なくとも5以上小さい元素からなる吸収板を入れ、二次ターゲットから発生する二次X線強度が10〜90%までの範囲で変化させる吸収板を設ける。【効果】 蛍光X線の測定強度は、吸収板の吸収効果で数10%吸収されるが、バックグランドは2〜3桁以上吸収されるのでP/B比が向上し、検出下限が下がる。つまり、検出感度がよくなる。

Claim (excerpt)：

一次X線を発生するX線管球と、前記一次X線を照射され二次X線を発生する異なった複数の材質のターゲット板と、前記一次X線を照射するターゲット板を任意に切換可能にするターゲット切換機構と、前記ターゲット板から発生する二次X線を、測定試料に照射することにより、前記測定試料中に含まれる元素から発生する蛍光X線を検出するエネルギー分散型X線検出器と、前記X線管球と前記ターゲット板との間に切換可能に配置された材質の異なった複数個の吸収板とよりなる蛍光X線分析装置において、前記吸収板は、前記ターゲット板構成元素の原子番号より少なくとも5以上小さい原子番号を元素で構成されていることを特徴とする蛍光X線分析装置。