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J-GLOBAL ID：200903035658933128

光学補償シート及びその製造方法並びにそれを用いた液晶表示素子

Inventor： 岡崎 正樹 ,  西川 秀幸 ,  伊藤 洋士
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993315419
Publication number (International publication number)：1995168020
Application date： Dec. 15, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】液晶表示装置の視覚特性を改善する光学補償シートおよび、液晶表示装置を得る。また、該シートの着色を低減させる。【構成】少くとも1種のアゾベンゼン部および少くとも1種のスチルベン又はベンジリデンアニリン部を含む高分子から成る光学異方性を有する光学補償シートおよびその製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式(1)および一般式(2)で表わされる基のそれぞれを少くとも一種ずつ部分構造として含む高分子から成ることを特徴とする光学補償シート。一般式(1)-Φ1 -N=N-Ar1式中、Φ1 は1,4-フェニレンを形成するに必要な原子群を表わす。Ar1はアリール基を表わす。一般式(2)-Φ2 -(W1 =W2)m -Ar2式中、Φ2 は1,4-フェニレンを形成するに必要な原子群を表わす。Ar2はアリール基を表わす。W1 およびW2 はNまたはCHを表わす。但し、同時にNであることはない。mは0または1を表わす。

IPC (4)：

G02B 5/30 ,  C08J 5/18 CER ,  C08L101/02 LTB ,  G02F 1/1335 510