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J-GLOBAL ID:200903035673301715
同位体比分析方法および装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
後藤 洋介 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992295610
Publication number (International publication number):1994148070
Application date: Nov. 05, 1992
Publication date: May. 27, 1994
Summary:
【要約】【目的】 測定同位体比の温度変動を補正して高精度で同位体比を測定して分析することができる同位体比分析方法および装置を提供する。【構成】 第1および第2の温度変化率演算装置10、11で第1および第2の同位体における吸収強度の第1および第2の温度変化率を求め、試料ガスを通過してきた光を検出する光検出器5の出力に基づいて光吸収強度測定装置12で第1および第2の同位体の光吸収強度測定値を求め、温度センサ8で試料ガスの温度を検出して温度測定値を求める。光吸収強度補正装置9は、温度測定値と第1および第2の温度変化率に基づいて第1および第2の変動値を求めると共にこれらの変動値により第1および第2の光吸収強度測定値を補正する。
Claim (excerpt):
試料ガス中の同位体の光吸収強度により同位体比を分析する同位体比分析方法において、第1の同位体における吸収線の吸収強度の第1の温度変化率を求め、第2の同位体における吸収線の吸収強度の第2の温度変化率を求め、試料ガス中の第1および第2の同位体の光吸収強度を測定して第1および第2の光吸収強度測定値を求め、これらの第1および第2の光吸収強度測定値を求めるのと同時に試料ガスの温度を検出して試料ガス温度測定値を求め、この試料ガス温度測定値と前記第1および第2の温度変化率に基づいて第1および第2の変動値を求め、かつ、これらの第1および第2の変動値により前記第1および第2の光吸収強度測定値を補正することを特徴とする同位体比分析方法。
Patent cited by the Patent: