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J-GLOBAL ID：200903035675628398

マルチビーム記録装置およびマルチビーム記録装置の開口板製作方法

Inventor： 立原 悟 ,  丸山 晃一 ,  中村 哲也 ,  奥山 隆志 ,  三好 民博 ,  鈴木 信一
Applicant, Patent owner： 旭光学工業株式会社
Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995142746
Publication number (International publication number)：1996310192
Application date： May. 17, 1995
Publication date： Nov. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】 機械的な機構によるビームの偏向を行うことなく、高精度・高精細な画像を高速に記録するための、マルチビーム記録装置およびその開口板製作方法を提供すること。【構成】 複数の光源部(42)と、前記複数の光源部のそれぞれに対応する開口が設けられた開口板(43)と、前記開口の像を感光材料(3)面上に投影する結像光学系(44、45)と、を有するマルチビーム記録装置において、前記結像光学系の結像面に目標結像パターンが描画されたパターンマスクを配置し、前記目標結像パターンを照明して、前記結像光学系により前記目標結像パターンを前記開口板位置に向けて投影し、前記開口板が設置される位置における前記目標結像パターンの投影像の位置に基づいて、前記開口板の開口を形成することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

複数の光源部と、前記複数の光源部のそれぞれに対応する開口が設けられた開口板と、前記開口の像を感光材料面上に投影する結像光学系と、を有するマルチビーム記録装置において、前記結像光学系の結像面に目標結像パターンが描画されたパターンマスクを配置し、前記目標結像パターンを照明して、前記結像光学系により前記目標結像パターンを前記開口板位置に向けて投影し、前記開口板が設置される位置における前記目標結像パターンの投影像の位置に基づいて、前記開口板の開口を形成することを特徴とする、マルチビーム記録装置の開口板製作方法。

IPC (2)：

B43L 13/00 ,  G03F 1/08

FI (2)：

B43L 13/00 K ,  G03F 1/08 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 光源ユニット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-223403   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭59-178730
  

Cited by examiner (2)

• 光源ユニット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-223403   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭59-178730