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J-GLOBAL ID:200903035688694985
プラズマ処理装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井内 龍二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994089476
Publication number (International publication number):1995296989
Application date: Apr. 27, 1994
Publication date: Nov. 10, 1995
Summary:
【要約】【構成】 誘電体層20と耐熱性板13との間に温風24aを供給するための温風供給手段24を備えているプラズマ処理装置。【効果】 温風24aにより耐熱性板13を所定温度に維持することができるため、温度の変化に伴って生じる耐熱板13のQ値の変動を抑制することができ、Q値の変動に伴って生じるマイクロ波の誘電損失の変動を抑制することができ、誘電損失の変動に伴って生じる電界強度の変動を抑制することができる。この結果、電界強度の変動に伴って発生するプラズマ密度の変動を抑制することができ、プラズマ処理速度の変動を小さくすることができ、プラズマ処理の効率を高めることができる。
Claim (excerpt):
マイクロ波導波路を形成すべく配置された誘電体層と、該誘電体層に対向配置されるマイクロ波を透過する耐熱性板で気密に封止された金属製容器と、該金属製容器内に配設された試料台とを備えたプラズマ処理装置において、前記誘電体層と前記耐熱性板との間に温風を供給するための温風供給手段を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4):
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (2):
H01L 21/302 B
, H01L 21/302 H
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