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J-GLOBAL ID：200903035709291789

マルチパルスレーザ発生装置、及びその方法、並びにそのマルチパルスレーザを用いた加工方法

Inventor： 矢野 眞 ,  桑原 皓二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991237843
Publication number (International publication number)：1993029693
Application date： Sep. 18, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】本発明の目的は、1つのレーザ源から単発パルスレーザビームから3個以上のマルチパルスレーザビームを発生するための方法と装置を提供するにある。【構成】レーザ源からの1パルスレーザビームは偏光ビームスプリッタにより第1と第2の方向の直線偏光レーザビームに分離され、第1方向のビームはマルチパルスの第1パルスとして出力される。第2方向のビームは、遅延と直線偏光から非直線偏光への変換を受け、再び偏光ビームスプリッタに入射される。そこで2方向の直線偏光レーザビームに再度分離され、第1方向に分離された遅延パルスビームはマルチパルスの第2パルスとして出力される。第2方向に分離された遅延パルスビームは上記のような再び遅延・非直線化ループを通されて第3パルスが生成される。

Claim (excerpt)：

パルスレーザビームを出射するパルスレーザ発振器と、該パルスレーザ発振器から出射されたパルスレーザ光を第1,第2の方向のレーザ光に分離し、第1の方向のレーザ光を出力側へ与えるための偏光ビーム分離手段と、該偏光ビーム分離手段で第1と第2の方向に分離されたレーザ光のうちの第2方向のレーザ光を非直線偏光化し、かつ非直線偏光化されたレーザ光に所定の遅延を付与して、再度前記偏光ビーム分離手段へ入射させ、第1方向に分離された遅延パルスレーザビームを出力側へ導く非直線偏光化遅延手段を含むことを特徴とするマルチパルスレーザ発生装置。

IPC (8)：

H01S 3/10 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/28 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/106 ,  H01S 3/109 ,  H05K 3/00