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J-GLOBAL ID:200903035713502999
カーボン硬質膜を形成した基材
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991197448
Publication number (International publication number):1993017864
Application date: Jul. 12, 1991
Publication date: Jan. 26, 1993
Summary:
【要約】【構成】表面に中間層2を介してカーボン硬質膜3を形成した基材において、中間層2がSiOx (0.1≦x≦0.5)の式で示される非化学量論的な組成の酸化シリコンである。【効果】優れた耐摩耗性と強固な密着性がえられ、信頼性に優れたカーボン硬質膜を形成した基材を提供することができ、応用範囲が大幅に広る。
Claim (excerpt):
表面に中間層を介してカーボン硬質膜を形成した基材において、中間層がSiOx (0.1≦x≦0.5)の式で示される非化学量論的な組成の酸化シリコンであることを特徴とするカーボン硬質膜を形成した基材。
IPC (4):
C23C 14/06
, C23C 16/02
, C23C 16/26
, C23C 28/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開平1-132779
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特開昭62-196371
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特開昭63-093866
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