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J-GLOBAL ID：200903035725270350

パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法

Inventor： 安藤 好幸 ,  大阿久 俊幸 ,  佐藤 亮 ,  浅野 秀樹
Applicant, Patent owner： 日立電線株式会社
Agent (1)： 絹谷 信雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994078496
Publication number (International publication number)：1995286280
Application date： Apr. 18, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 立体構造を有するプラスチック成形品の表面にパターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法を提供する。【構成】 立体構造を有するプラスチック成形品1を形成し、その表面を粗面化して得られた粗化面上に金属めっきを施し、金属めっき層の上にフォトレジスト膜を形成し、電気回路のパターンを有するフォトマスク11を介して露光した後エッチングを施すことによりプラスチック成形品1の表面に電気回路のパターン状金属層を形成したパターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法において、プラスチック成形品10にプラスチック成形品10の形状に合わせてフォトマスク11を密着させた後フォトレジストを露光する際に、複数の方向からフォトレジストを露光させると共に露光すべきレジストの面以外の面は遮光マスク12,13,14で遮光することを特徴としている。

Claim (excerpt)：

立体構造を有するプラスチック成形品を形成し、その表面を粗面化して得られた粗化面上に金属めっきを施し、金属めっき層の上にフォトレジスト膜を形成し、電気回路のパターンを有するフォトマスクを介して露光した後エッチングを施すことにより上記プラスチック成形品の表面に電気回路のパターン状金属層を形成したパターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法において、上記プラスチック成形品に該プラスチック成形品の形状に合わせてフォトマスクを密着させた後フォトレジストを露光する際に、複数の方向からフォトレジストを露光させると共に露光すべきレジストの面以外の面は遮光マスクで遮光することを特徴とするパターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。

IPC (4)：

C23C 18/31 ,  G03F 1/00 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06