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J-GLOBAL ID：200903035741922634

ポリアミド系化合物中の金属除去方法

Inventor：
吉橋 彩子

About 吉橋 彩子

, 
村山 三素

About 村山 三素


Applicant, Patent owner：
住友ベークライト株式会社

About 住友ベークライト株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002041911
Publication number (International publication number)：2003238682
Application date： Feb. 19, 2002
Publication date： Aug. 27, 2003
Summary：
【要約】【課題】 ポリアミド系化合物中の金属を、高効率で簡便に低減することができる方法を提供する。【解決手段】 ポリアミド系化合物の有機溶媒溶液を、ゼータ電位が作用する機能性濾材、または、機能性濾材とイオン交換体及び/又はキレート形成体とを併用したフィルターに通液させる。
Claim (excerpt)：
一般式(A)で表される繰り返し単位を有するポリアミド系化合物の有機溶媒溶液を、ゼータ電位が作用する濾材に通液させることを特徴とする、ポリアミド系化合物中の金属除去方法。【化1】式中、m及びnは、m>0、n≧0、2≦m+n≦1000、及び0.05≦m/(m+n)≦1の関係を満たす整数である。Xは、式(B)で表される基の中から選ばれる4価の基、Yは、式(C)、式(D)、式(E)、及び式(F)で表される基の中から選ばれる少なくとも1つの2価の基、Zは、式(G)で表される基の中から選ばれる2価の基を表す。また、一般式(A)において、2つのXは同じであっても、異なっていても良く、繰り返し単位の配列は、ブロック的であってもランダム的であっても構わない。【化2】【化3】【化4】【化5】【化6】【化7】式(B)及び式(G)中のX1は、式(H)で表される基の中から選ばれる2価の基を示す。式(D)中のRは、アルキル基又は式(I)で表される基の中から選ばれる1価の基を示す。また、式(B)、式(D)、式(E)、式(F)、式(G)、及び式(H)で表される基におけるベンゼン環上の水素原子は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、フッ素原子、及びトリフルオロメチル基からなる群より選ばれる、少なくとも1個の基で置換されていても良い。【化8】【化9】
F-Term (23)：
4J043PA04 ,  4J043QB33 ,  4J043RA06 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043TA12 ,  4J043UA052 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA232 ,  4J043UA241 ,  4J043UA262 ,  4J043UB052 ,  4J043UB102 ,  4J043UB121 ,  4J043UB122 ,  4J043UB132 ,  4J043UB142 ,  4J043UB302 ,  4J043YA01 ,  4J043ZB47 ,  4J043ZB50
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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