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J-GLOBAL ID：200903035751267561

基材上への粒子層の形成方法、基材凹凸面の平坦化方法および粒子層付基材

Inventor： 中 島 昭 ,  小 松 通 郎 ,  大 野 憲 二 ,  寺 本 邦 治 ,  井 上 一 昭
Applicant, Patent owner： 触媒化成工業株式会社
Agent (1)： 鈴木 俊一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994213148
Publication number (International publication number)：1996057295
Application date： Aug. 15, 1994
Publication date： Mar. 05, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基材との密着性に優れた粒子層を基材上に形成する方法、基材の凹凸面を平坦化する方法、および密着性に優れた粒子層が形成された粒子層付基材を提供する。【構成】 バインダーを形成しうる化合物で表面処理された固体粒子が分散媒中に分散してなる分散液(I)を、前記分散媒よりも比重が大きく、しかも前記分散媒と相溶しない液(II)上に展開し、次いで前記分散液(I)から前記分散媒を除去して前記液(II)上に前記固体粒子を配列させて粒子層を形成した後、前記粒子層を基材上に転写する工程によって粒子層を基材上に形成する基材上への粒子層の形成方法、前記粒子層を基材凹凸面上に転写した後、基材の凸部に形成された粒子層を除去する工程を経て基材凹凸面を平坦化する基材凹凸面の平坦化方法、および前記方法で得られた粒子層を基材表面に有する粒子層付基材。

Claim (excerpt)：

バインダーを形成しうる化合物で表面処理された固体粒子が分散媒中に分散してなる分散液(I)を、前記分散媒よりも比重が大きく、しかも前記分散媒と相溶しない液(II)上に展開し、次いで前記分散液(I)から前記分散媒を除去して前記液(II)上に前記固体粒子を配列させて粒子層を形成した後、前記粒子層を基材上に転写する工程によって粒子層を基材上に形成することを特徴とする基材上への粒子層の形成方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-171671
  
• 特開昭61-228025
  
• 特開平4-110064