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J-GLOBAL ID：200903035770013180

微小部分析方法

Inventor： 田村 浩一
Applicant, Patent owner： セイコー電子工業株式会社
Agent (1)： 林 敬之助 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994065308
Publication number (International publication number)：1995270346
Application date： Apr. 01, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 使用する1次ビームの照射サイズを直接小さくすることなく、1次ビームの照射サイズよりも小さな領域を分析することができる方法および装置を得る。【構成】 1次ビームの照射サイズよりも小さい最小移動量と位置決め精度をもつ試料ステージを用い、複数の1次ビームの照射領域A、B、C、Dの重畳する部分が所望の分析領域1にほぼ一致するように位置関係を選んでX線スペクトルを測定し、それらのスペクトル情報から分析領域及びバックグラウンドの情報を抽出する。

Claim (excerpt)：

試料に1次ビームを照射しX線を励起させる励起線源と、前記試料を載置する試料ステージと、前記試料ステージを少なくとも2次元方向に制御する装置制御部と、前記試料からの前記X線を検出するX線検出部と、前記X線検出部からの情報をもとにデータ処理を行いX線スペクトルを取得するデータ処理部とから構成される微小部X線分析装置において、前記試料ステージとして最小移動量が前記1次ビームの照射サイズよりも小さいものを使用し、1.所望の分析領域に対して、前記1次ビームの照射領域が内接する条件を満たす複数の第1のステージ位置のうち、前記第1のステージ位置に対応する複数のビーム照射領域の重畳する領域がほぼ前記分析領域に一致するような前記第1のステージ位置の組み合わせを選び、前記第1の各ステージ位置で取得した複数のX線スペクトルの共通成分Iを得る。2.前記分析領域に対して、前記1次ビームの照射領域が外接する条件を満たす複数の第2のステージ位置のうち、前記第2のステージ位置に対応する複数のビーム照射領域のいずれにもあたらない領域がほぼ前記分析領域に一致するような第2のステージ位置の組み合わせを選び、前記第2の各ステージ位置で取得した複数のX線スペクトルの共通成分Jを得る。3.前記共通成分Iと前記共通成分Jとの差を求める。以上の手順により、1次ビームの照射サイズよりも小さな領域の分析を行うことを特徴とする微小部分析方法。

IPC (2)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/225