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J-GLOBAL ID：200903035780386812

投影光学系及びそれを用いた投影露光装置

Inventor： 吽野 靖行
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997218179
Publication number (International publication number)：1999054411
Application date： Jul. 29, 1997
Publication date： Feb. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 投影光学系に含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正し、高解像度のパターンが得られる投影光学系及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【解決手段】 第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。

Claim (excerpt)：

第1物体のパターンを第2物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していることを特徴とする投影光学系。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 5/30 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521