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J-GLOBAL ID：200903035836298342

差圧CVDチャック

Inventor： スティーブン シー. セルブレッジ
Applicant, Patent owner： ジーナス インコーポレイテッド
Agent (1)： 門間 正一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991263856
Publication number (International publication number)：1994342760
Application date： Oct. 11, 1991
Publication date： Dec. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 集積回路の製造で用いるウェーハについての化学薬品蒸着に関する。【構成】 CVD処理中に縁、裏面の被覆を防ぐ装置は、台にあるパージ・キャビティ内の可撓性支持体でウェーハを支え、可動性クランプ・リングが支持体を変形させ、ウェーハの周縁まわりにウェーハの前面と共にスロットを形成し、台との接触によって、スロットのところを除いてパージ・キャビティを処理室から隔離する。ウェーハはパージ・キャビティ内の熱分解炭素ヒータによって加熱され、パージ・キャビティにパージ・ガスが導入されてスロットを通して流れ、パージ・キャビティ内へコーティング・ガスが拡散するのを阻止し、ウェーハの縁あるいは裏面を被覆するのを防ぐようになっている。別の実施例では、複数の台を設け、一回のサイクルで複数のウェーハを処理することができ、真空ロックと自動取り扱い装置が設けてある。

Claim (excerpt)：

CVD室での処理中にウェーハの縁および裏面を被覆するのを防ぐ装置であって、処理中にウェーハを支持する支持手段と、ウェーハの周縁まわりにその縁と共にスロットを形成し、また、このスロットのところを除いて前記CVD室から隔離したパージ・キャビティをウェーハまわりに形成し、ウェーハのほぼ前面をCVD室に露出させる開口を有するパージ・キャビティ手段と、前記パージ・キャビティにパージ・ガスを供給し、このパージ・キャビティから前記CVD室へ前記スロットを通して流し、前記CVD室から前記パージ・キャビティへのコーティング・ガスの拡散を阻止するパージ・ガス手段とを包含する装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/68