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J-GLOBAL ID：200903035837561772

パターン照合装置

Inventor： 中島 寛 ,  小林 孝次 ,  青木 孝文 ,  川又 政征 ,  樋口 龍雄
Applicant, Patent owner： 山武ハネウエル株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996107244
Publication number (International publication number)：1997022406
Application date： Apr. 26, 1996
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 照合精度を高め、安価とする。【解決手段】 照合指紋の画像データ(図1(e))に2次元離散的フーリエ変換(DFT)を施して照合フーリエ画像データを作成する(図1(f))。この照合フーリエ画像データと同様の処理を施して作成されている登録指紋の登録フーリエ画像データ(図1(b))とを合成し、この合成フーリエ画像データ(図1(d))に対して振幅抑制処理(log処理)を行ったうえ、DFTを施す。このDFTの施された合成フーリエ画像データ(図1(h))に出現する相関成分エリアS0よりその相関成分の強度の高い上位n画素を抽出し、この抽出したn画素の相関成分の強度の平均を相関値としてしきい値と比較する。相関値がしきい値よりも高ければ登録指紋と照合指紋とは一致したと判断する。

Claim (excerpt)：

登録パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して登録フーリエN次元パターンデータを作成する登録フーリエパターンデータ作成手段と、照合パターンのN次元パターンデータにN次元離散的フーリエ変換を施して照合フーリエN次元パターンデータを作成する照合フーリエパターンデータ作成手段と、前記登録フーリエN次元パターンデータと前記照合フーリエN次元パターンデータとを合成し、これによって得られる合成フーリエN次元パターンデータに対して振幅抑制処理を行ったうえN次元離散的フーリエ変換を施すパターン処理手段と、このパターン処理手段によってN次元離散的フーリエ変換の施された合成フーリエN次元パターンデータに出現する相関成分エリアのN次元パターンデータを構成する個々のデータ毎の相関成分の強度に基づいて前記登録パターンと前記照合パターンとの照合を行うパターン照合手段とを備えたことを特徴とするパターン照合装置。

IPC (2)：

G06F 17/14 ,  G06T 7/00

FI (5)：

G06F 15/332 A ,  G06F 15/62 460 ,  G06F 15/62 465 U ,  G06F 15/70 460 A ,  G06F 15/70 460 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• ディジタル周波数領域相関器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-148182   Applicant：グラマン・エアロスペース・コーポレーション
• 画像種別の自動判別方法及び装置並びにその判別用の閾値の決定方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-163810   Applicant：東京電力株式会社, 東京計算サービス株式会社
• 特開平3-255428