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J-GLOBAL ID：200903035857880580

投影露光装置

Inventor： 長山 匡 ,  水谷 英夫 ,  中川 正弘
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992183027
Publication number (International publication number)：1994005490
Application date： Jun. 17, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 任意の線幅のパターンに関する投影光学系の焦点位置や倍率誤差等の結像特性を計測する。【構成】 ウエハステージ12上のステージ基板13上に線幅の異なる2つの基準マークWM1及びWM2を形成し、これら基準マークの一方の像をレチクルRの下面に投影光学系PLを介して投影し、この下面の投影像からの光の内でレチクルマークRM1又はRM2を透過した光をコンデンサーレンズ10、ビームスプリッター9を介して光電変換素子31及び33で受光する。2種類の線幅に関する特性より任意の線幅に関する投影光学系PLの結像特性を算出する。

Claim (excerpt)：

露光光を発生する光源と、前記露光光を集光してマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンを前記露光光のもとでステージ上の感光基板上に投影する投影光学系と、前記ステージ上に形成されたそれぞれ線幅の異なる複数の計測マークと、前記露光光と同一波長の光で前記複数の計測マークの内の任意の1つの計測マークを照明する計測マーク照明光学系と、該計測マーク照明光学系により照明された任意の1つの計測マークからの光を前記投影光学系を介して受光する光電変換手段と、前記複数の計測マークをそれぞれ照明することにより前記光電変換手段にて得られる複数の出力信号に基づいて、前記複数の計測マークの線幅とは異なる線幅のマークに関する前記投影光学系の結像特性を算出する演算手段とを有する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521