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J-GLOBAL ID：200903035868682713

脱塩水製造装置および脱塩水製造方法

Inventor： 埜村 誠 ,  織田 信博 ,  松下 聿宏
Applicant, Patent owner： 栗田工業株式会社
Agent (1)： 志賀 正武 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001011662
Publication number (International publication number)：2002210467
Application date： Jan. 19, 2001
Publication date： Jul. 30, 2002
Summary：

【要約】【課題】 脱塩性能に優れ、しかもシリカ、ホウ素化合物を効率よく除去することができる脱塩水製造装置および脱塩水製造方法を提供する。【解決手段】 被処理物中のイオン性物質の除去処理を行う通液型電気二重層コンデンサ2の上流側に、被処理水に酸を添加する酸添加手段3と、酸を添加した被処理水から炭酸を除去する脱炭酸手段4が設けられている。

Claim (excerpt)：

被処理水中のイオン性物質の除去処理を行う通液型電気二重層コンデンサ(2)の上流側に、被処理水に酸を添加する酸添加手段(3)と、酸を添加した被処理水から炭酸を除去する脱炭酸手段(4)を設けたことを特徴とする脱塩水製造装置。

IPC (4)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/20 ,  C01B 5/00 ,  H01M 8/04

FI (4)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/20 Z ,  C01B 5/00 Z ,  H01M 8/04 N

F-Term (18)：

4D037AA02 ,  4D037BA23 ,  4D037CA04 ,  4D037CA14 ,  4D061DA03 ,  4D061DB13 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB12 ,  4D061EB16 ,  4D061EB19 ,  4D061EB23 ,  4D061EB27 ,  4D061EB29 ,  4D061EB31 ,  4D061FA03 ,  4D061FA11 ,  5H027DD00