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J-GLOBAL ID:200903035889708577

高周波プラズマ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青木 朗 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991168232
Publication number (International publication number):1993021193
Application date: Jul. 09, 1991
Publication date: Jan. 29, 1993
Summary:
【要約】【目的】 高周波プラズマ装置において、中流部以外にも上流部および下流部において被処理材を加熱することができる装置を提供することを目的とする。【構成】 高周波プラズマトーチの上流部に一方の電極を設け、高周波プラズマトーチの下流部にもう一方の電極を設けてかつ両電極を高周波プラズマ電源とは独立な電源に接続してなる装置である。本装置により高周波プラズマに移行型アークプラズマを重畳することが可能となる。
Claim (excerpt):
高周波プラズマ装置に於て、高周波プラズマトーチ上流側に一方の電極を設け、かつ前記高周波プラズマトーチ下流側にもう一方の電極を設けるとともに、前記両電極を高周波プラズマ電源から独立したプラズマ電源に接続してなる系を付加したことを特徴とする高周波プラズマ装置。

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