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J-GLOBAL ID：200903035901666800

ホトレジスト組成物の製造方法、ろ過装置、塗布装置及びホトレジスト組成物

Inventor： 室井 雅昭 ,  尾崎 弘和 ,  岩井 武 ,  羽田 英夫 ,  富田 浩明 ,  嶋崎 真明
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003416583
Publication number (International publication number)：2004212975
Application date： Dec. 15, 2003
Publication date： Jul. 29, 2004
Summary：

【課題】 現像後のレジストパターンのディフェクトの発生を抑制できるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。また、異物経時特性(保存安定性)に優れるホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。そして、さらに好ましくは、処理前後で感度やレジストパターンサイズの変化が起こりにくいホトレジスト組成物が得られる技術を提供する。【解決手段】樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むホトレジスト組成物を、pH7.0の蒸留水において-20mV超、15mV以下のゼータ電位を有する第1の膜を備えた第1のフィルタ2qを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むホトレジスト組成物を、pH7.0の蒸留水において-20mV超、15mV以下のゼータ電位を有する第1の膜を備えた第1のフィルタを通過させる工程を有することを特徴とするホトレジスト組成物の製造方法。

IPC (9)：

G03F7/26 ,  B01D61/14 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  C08F220/10 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (9)：

G03F7/26 ,  B01D61/14 500 ,  B01D61/58 ,  B01D69/02 ,  B01D71/26 ,  B01D71/56 ,  C08F220/10 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (42)：

2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC03 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA11 ,  2H096BA20 ,  2H096EA05 ,  2H096LA16 ,  2H096LA30 ,  4D006GA02 ,  4D006KA52 ,  4D006KA56 ,  4D006MA22 ,  4D006MB19 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC30 ,  4D006MC54 ,  4D006PB20 ,  4D006PB70 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12S ,  4J100BC15Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-100300   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-234239   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-193603   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-252127   Applicant：住友化学工業株式会社
• レジスト組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-173377   Applicant：住友化学工業株式会社

Cited by examiner (8)

• ポジ型レジスト組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-134146   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• レジスト組成物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-173377   Applicant：住友化学工業株式会社
• 微細粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-288264   Applicant：住友化学工業株式会社
• 成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-359081   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 生物学的流体フィルターおよびシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-573410   Applicant：ポール・コーポレーション
• 化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-307366   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-137757   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-369225   Applicant：東京応化工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 半導体産業新聞, 19971105, 第10面