Pat
J-GLOBAL ID:200903035917356231
極紫外線縮小投影露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉原 省三 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994072840
Publication number (International publication number):1995263322
Application date: Mar. 18, 1994
Publication date: Oct. 13, 1995
Summary:
【要約】【目的】 露光精度、露光スループット、作業効率の低下を来すことのない極紫外線縮小投影露光装置の構成を提案せんとするものである。【構成】 露光々に極紫外線の用いられる照明光学系4が配置される空間と露光パターンの描かれたマスク5が配置される空間との間、上記露光パターンを縮小投影しながら結像せしめる結像光学系6a、6bが配置される空間と該マスク配置空間との間、縮小投影による上記パターンの結像面を有するウェハ7が配置される空間と該結像光学系配置空間との間に、差動排気機構1及び薄膜窓2を設け、これらの空間の間を分離している。
Claim (excerpt):
露光々に極紫外線の用いられる照明光学系が配置される空間と露光パターンの描かれたマスクが配置される空間との間、上記露光パターンを縮小投影しながら結像せしめる結像光学系が配置される空間と該マスク配置空間との間、縮小投影による上記パターンの結像面を有する試料が配置される空間と該結像光学系配置空間との間に、差動排気機構又は薄膜窓の少なくとも一つを設けてこれらの空間の間を分離したことを特徴とする極紫外線縮小投影露光装置。
IPC (4):
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 502
, G03F 7/20 521
FI (3):
H01L 21/30 531 A
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 529
Return to Previous Page