液晶光学素子の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：吉田勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993061303
Publication number (International publication number)：1994250160
Application date： Feb. 26, 1993
Publication date： Sep. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】所定の位置の所定の部分だけに均一な膜厚の液晶/高分子複合膜を容易に形成することの出来る液晶光学素子の製造方法を提供すること。【構成】高分子マトリックス中に液晶が分散して存在する液晶/高分子複合膜を、少なくとも一方の導電性基材が透明である2枚の導電性基材で挟持してなる液晶光学素子の製造方法において、一方の導電性基材上に電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画室内に、液晶と電離放射線硬化型モノマー及び/又はオリゴマーとの均一溶液を充填した後、この上に対向する他方の導電性基材を貼り合わせ、続いて、電離放射線を照射することにより、前記電離放射線硬化型モノマー及び/又はオリゴマーを重合して液晶を相分離させ且つこの相分離構造を固定することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。

Claim (excerpt)：

高分子マトリックス中に液晶が分散して存在する液晶/高分子複合膜を、少なくとも一方の導電性基材が透明である2枚の導電性基材で挟持してなる液晶光学素子の製造方法において、一方の導電性基材上に電気絶縁性材料からなる隔壁によって区画された複数の区画室内に、液晶と電離放射線硬化型モノマー及び/又はオリゴマーとの均一溶液を充填した後、この上に対向する他方の導電性基材を貼り合わせ、続いて、電離放射線を照射することにより、前記電離放射線硬化型モノマー及び/又はオリゴマーを重合して液晶を相分離させ且つこの相分離構造を固定することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。

IPC (2)：

G02F 1/1333 , G02F 1/13 101

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

特開平4-369617
特開平4-056920
液晶デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-158542 Applicant：大日本インキ化学工業株式会社

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