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J-GLOBAL ID：200903035984076979

洗浄方法および洗浄装置

Inventor： 高橋 宏明
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998271510
Publication number (International publication number)：2000098320
Application date： Sep. 25, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】被洗浄物を効率良く洗浄でき、製造効率の向上、製造コストの低減を図ることが可能な被洗浄物の洗浄方法、および洗浄装置を提供することにある。【解決手段】 オゾンガスを含んでいるとともに酸素ガスを10ppm以上の濃度で溶解させた洗浄水に超音波を付加し、この洗浄水により被洗浄物に付着した汚染物質を除去する。

Claim (excerpt)：

オゾンガスを含んでいるとともに酸素ガスを10ppm以上の濃度で溶解させた洗浄水により、被洗浄物に付着した汚染物質を除去することを特徴とする洗浄方法。

IPC (4)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/10 ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 647

FI (4)：

G02F 1/13 101 ,  B08B 3/10 Z ,  G02F 1/1333 500 ,  H01L 21/304 647 Z

F-Term (11)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090HC18 ,  2H090JC19 ,  3B201AA03 ,  3B201BB33 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12