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J-GLOBAL ID：200903035986678119
蒸着方法及び蒸着装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998138998
Publication number (International publication number)：1999335820
Application date： May. 20, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：
【要約】【課題】 本発明は、プラズマディスプレイパネル等に使用する大型基板に対して薄膜層を形成するための蒸着方法及び蒸着装置に係り、時間経過に伴ってカソードの形状変化が発生する場合においても、蒸着原料に対する電子ビームの照射強度や照射位置を常に一定にすることにより、均一な薄膜層を安定して得ることのできる蒸着方法及び蒸着装置を提供することを目的としている。【解決手段】 蒸着原料11に電子ビーム9を照射することで該蒸着原料11を蒸発させ、その蒸気12を被処理体2表面に被着させて成膜を行なう蒸着方法において、前記蒸着原料11における前記電子ビーム9の照射位置及び照射範囲を検出し、照射位置と照射範囲の検出結果に基づいて電子ビーム9に与える磁力を制御することで、蒸着原料11に対して常に一定の位置及び範囲に電子ビーム9を照射することを特徴としている。
Claim (excerpt)：
蒸着原料に電子ビームを照射することで該蒸着原料を蒸発させ、その蒸気を被処理体表面に被着させて成膜を行なう蒸着方法において、前記蒸着原料における前記電子ビームの照射位置及び照射範囲を検出し、照射位置と照射範囲の検出結果に基づいて電子ビームに与える磁力を制御することで、蒸着原料に対して常に一定の位置及び範囲に電子ビームを照射することを特徴とする蒸着方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C23C 14/30 B
, H01J 9/02 F
