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J-GLOBAL ID：200903036001561480

磁気抵抗効果膜の製造方法

Inventor： 前田 篤志
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 西野 卓嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993300580
Publication number (International publication number)：1995153641
Application date： Nov. 30, 1993
Publication date： Jun. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐食性を向上させるために膜厚を大きくした場合においても、磁気抵抗変化率が大きく、且つ動作磁界強度が小さい磁気抵抗効果材料を提供する。【構成】 基板7の周囲に磁界を印加した状態で、該基板7上に、磁性合金5と、該磁性合金5とは固相及び液相の両方で原子的に混合しない非固溶の関係にあるAg6とからなる磁性膜を蒸着により成膜する。

Claim (excerpt)：

基板の周囲に磁界を印加した状態で、該基板上に、強磁性金属と、該強磁性金属とは固相及び液相の両方で原子的に混合しない非固溶の関係にある非磁性金属とからなる磁性膜を成膜することを特徴とする磁気抵抗効果膜の製造方法。

IPC (4)：

H01F 41/20 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/30 ,  H01L 43/02