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J-GLOBAL ID：200903036028830050

活性陰極及びその製造法

Inventor： 岸 剛陸 ,  有元 修
Applicant, Patent owner： クロリンエンジニアズ株式会社
Agent (1)： 赤野 牧子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995125911
Publication number (International publication number)：1996296079
Application date： Apr. 26, 1995
Publication date： Nov. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】 十分に低い水素過電圧を安定に保持できる活性陰極で、且つ、電解槽に用いてイオン交換膜への汚染がなく、また、酸化による劣化や発火のおそれがない活性陰極の提供。【構成】 金属基体上に、ニッケル又はコバルトを主体とする第一層及び該第一層上に白金またはルテニウムを主体とする第二層が形成されてなることを特徴とする活性陰極。第一層がラネーニッケルを有して形成されて、第二層が広大な陰極作動面積を有することが好ましい。また、第一層が酸化ニッケル又は酸化コバルトであり、第二層が微細な白金粒子又はルテニウム粒子により形成されて広大な陰極作動面積を有することが好ましい。

Claim (excerpt)：

金属基体上に、ニッケル又はコバルトを主体とする第一層及び該第一層上に白金またはルテニウムを主体とする第二層が形成されてなることを特徴とする活性陰極。

IPC (5)：

C25B 11/08 ,  C23C 2/04 ,  C23C 18/31 ,  C23C 28/02 ,  C25B 11/04

FI (5)：

C25B 11/08 A ,  C23C 2/04 ,  C23C 18/31 A ,  C23C 28/02 ,  C25B 11/04 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭55-122887
  
• 特開昭60-002686
  
• 特開昭57-207183
  
• 特公昭61-012032