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J-GLOBAL ID：200903036044642883

メタル上の異物の除去方法およびその装置

Inventor： 中野 俊典
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 深見 久郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994284891
Publication number (International publication number)：1996144075
Application date： Nov. 18, 1994
Publication date： Jun. 04, 1996
Summary：

【要約】【目的】 本発明は、メタル上の異物除去性が向上し、高歩留りな製品が得られるように改良された、メタル上の異物の除去方法を提供することを最も主要な特徴とする。【構成】 Al系配線3が形成されたウェハ13の表面を、有機アルカリ系薬品12を用いて洗浄し、異物1を除去する。

Claim (excerpt)：

Al系配線が形成されたウェハの表面を有機アルカリ系薬品を用いて洗浄する、メタル上の異物の除去方法。

IPC (7)：

C23G 5/02 ,  B08B 3/08 ,  C11D 7/32 ,  C23G 1/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/308

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-281332
  
• 処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-217462   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平4-042924