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J-GLOBAL ID：200903036061099034

露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法

Inventor： 村上 成郎 ,  三浦 孝治 ,  谷元 昭一 ,  市原 裕 ,  水谷 英夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998333241
Publication number (International publication number)：1999224854
Application date： Nov. 24, 1998
Publication date： Aug. 17, 1999
Summary：

【要約】【課題】 スループットを向上させる。【解決手段】 照明光学系IOP1、IOP2からの照明光によりマスクステージRS1上のマスクとマスクステージRS2上のマスクとをそれぞれ照射した状態で、マスクステージRS1と基板ステージWS1とを投影光学系PL1の投影倍率に応じた速度比でY方向に同期移動するとともに、マスクステージRS2と基板ステージRS2とを投影光学系PL2の投影倍率に応じた速度比で第1方向に同期移動する。これらの露光動作と並行して、基板ステージWS3、WS4上でアライメント動作を行う。これにより、第1基板W1及び第2基板W2に対する露光動作と、第3基板W3、第4基板W4に対するアライメント動作とが同時並行的に行われる。

Claim (excerpt)：

マスクに形成されたパターンを基板上に転写する露光装置であって、マスクをそれぞれ保持して第1方向に移動可能な第1、第2マスクステージと;前記各マスクに照明光を照射する照明系と;前記各マスクから出射される照明光を基板上に投射する第1、第2投影光学系と;前記第1、第2投影光学系に対し前記第1、第2マスクステージと同じ側に配置され、前記基板をそれぞれ保持して移動可能な第1、第2基板ステージと;前記第1マスクステージと前記第1基板ステージとを前記第1投影光学系の投影倍率に応じた速度比で前記第1方向に同期移動させるとともに、前記第2マスクステージと前記第2基板ステージとを前記第2投影光学系の投影倍率に応じた速度比で前記第1方向に同期移動させる駆動装置とを備える露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (6)：

H01L 21/30 514 C ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 525 X