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J-GLOBAL ID：200903036090982427

クロムスパッタリングターゲット

Inventor： 田中 博志 ,  樋高 宏昭 ,  花輪 浩一 ,  関根 慎二
Applicant, Patent owner： 東ソー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992199003
Publication number (International publication number)：1994017246
Application date： Jul. 03, 1992
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】ターゲット表面に露出した、ターゲット中に存在する介在物の一つの部分の径が1μm以上で、それらの面積の合計が、スパッタリングの対象となるターゲットの表面積の0.1%以下であるクロムスパッタリングターゲット。【効果】このターゲットを用いてスパッタリングを行うとパーティクルの少ないスパッタリング表面が得られる。

Claim (excerpt)：

スパッタリングの対象となるターゲット表面において、ターゲット中に存在する介在物の表面に露出した一つの部分の径が少なくとも1μmで、それらの面積の合計が、前記ターゲット表面積の0.1%以下である事を特徴とするクロムスパッタリングターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-240702
  
• 特開昭63-162863