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J-GLOBAL ID：200903036112750410

二酸化炭素固定化用触媒及び二酸化炭素の固定化方法

Inventor： 大空 弘幸 ,  小林 一登
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994146139
Publication number (International publication number)：1996010625
Application date： Jun. 28, 1994
Publication date： Jan. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 二酸化炭素固定化用触媒及び該触媒を用いる二酸化炭素の光学的固定化方法に関する。【構成】 ?@ 可視光励起型半導体を分子厚さで光透過性基材に担持してなる二酸化炭素固定化用触媒及び?A 上記?@の触媒に二酸化炭素及び水を太陽光照射下で接触させて二酸化炭素より含酸素炭化水素を合成する方法。

Claim (excerpt)：

可視光励起型半導体を分子厚さで光透過性基材に担持してなることを特徴とする二酸化炭素固定化用触媒。

IPC (9)：

B01J 35/02 ,  B01J 27/04 ,  B01J 27/18 ,  B01J 27/224 ,  C01B 31/20 ,  C07C 29/15 ,  C07C 31/04 ,  C07C 31/08 ,  C07B 61/00 300